Eclipse Sirius 6.0: Modellierungswerkzeuge erhalten smarte Diagramm- und Workflow-Funktionen

Die Eclipse Foundation hat Eclipse Sirius 6.0 als Teil des Photon-Release-Zugs vorgestellt. Das Framework dient zum Erstellen grafischer Modellierungswerkzeuge für domänenspezifische Sprachen. Die Version erweitert Diagramme, Navigation und die geplante Öffnung hin zu webbasierten Arbeitsumgebungen.

Eine neue Funktion erzeugt Kanten in Diagrammen automatisch aus dem gewählten Start- und Zielobjekt. Sirius prüft dabei, welche Werkzeuge für die Verbindung infrage kommen, und öffnet bei mehreren Möglichkeiten ein Auswahlmenü. Hintergrundfarben von Diagrammen können außerdem dynamisch aus dem Zustand des zugrunde liegenden Modells berechnet werden.

Java-Code und Layout-Algorithmen direkt aus dem Modell

Sirius 6.0 verknüpft Ausdrücke mit Java-Services. Entwickler können aus einer Sirius-Spezifikation direkt zur Implementierung einer aufgerufenen Methode springen. Für automatische Layouts lässt sich zusätzlich das Eclipse Layout Kernel (ELK) einbinden. Die Integration war in Version 6.0 noch als experimentell gekennzeichnet.

Das Release ergänzt die Eclipse-Photon-Entwicklungsumgebung um ein Werkzeug für spezialisierte Modellierungsoberflächen. Ein neuer Workflow kann Aktionen über eine DSL beschreiben und diese als Webelemente innerhalb einer Eclipse-Ansicht darstellen.

Die Eclipse-Foundation plante für folgende Versionen eine stärkere Modularisierung und webbasierte Diagramme. Sirius sollte dabei schrittweise unabhängiger von Eclipse UI, GMF, Workspace und Eclipse Runtime werden. Der Ansatz richtet sich an Teams, die eigene Entwicklungs- oder Produktionswerkzeuge für komplexe technische Modelle bauen.

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